Tira plana brillant d'aliatge 1Cr13Al4 FeCrAl / tira ampla per a resistències

Els aliatges de Fecral i els aliatges de níquel-crom s'han escollit com a material resistiu per a resistències incrustades, ja que els aliatges de níquel-crom posseeixen una alta resistivitat elèctrica que s'utilitza àmpliament per a resistències de pel·lícula fina [1, 2]. La resistència de la làmina de la pel·lícula d'aliatge de níquel-crom que conté un 20% de crom pot arribar als 2-3 quilohms i mantenir una bona estabilitat. El coeficient de temperatura 1 de la resistència (TCR) per a l'aliatge de níquel-crom a granel és d'uns 110 ppm/°C. En aliar una petita quantitat de silici i alumini amb níquel-crom, l'estabilitat de la temperatura millora encara més.

Aplicació:

Les resistències integrades en una placa de circuits impresos permetran la miniaturització de paquets amb una major fiabilitat i un millor rendiment elèctric. La integració de la funcionalitat de la resistència al substrat laminat allibera la superfície de la placa de circuits impresos (PWB) consumida pels components discrets, cosa que permet augmentar la funcionalitat del dispositiu mitjançant la col·locació de components més actius. Els aliatges de níquel-crom posseeixen una alta resistivitat elèctrica, cosa que els fa pràctics per al seu ús en una varietat d'aplicacions. El níquel i el crom s'alien amb silici i alumini per millorar l'estabilitat de la temperatura i reduir el coeficient tèrmic de la resistència. S'ha dipositat contínuament una capa resistiva de pel·lícula fina basada en aliatges de níquel-crom sobre rotlles de làmina de coure per crear un material per a aplicacions de resistències integrades. La capa resistiva de pel·lícula fina intercalada entre el coure i el laminat es pot gravar selectivament per formar resistències discretes. Els productes químics per al gravat són habituals en els processos de producció de PWB. Controlant el gruix dels aliatges, s'obtenen valors de resistència de làmina de 25 a 250 ohms/cm². Aquest article compararà dos materials de níquel-crom en les seves metodologies de gravat, uniformitat, maneig de potència, rendiment tèrmic, adhesió i resolució de gravat.