1cr13Al4 Aliatge fecal Fixa plana/ franja ampla per a resistències

Els aliatges fecrals i els aliatges de níquel-crom han estat escollits per ser el material resistiu per a la resistència incrustada perquè els aliatges de níquel-crom posseeixen una alta resistència elèctrica que s’utilitza àmpliament per a resistències de pel·lícules primes [1, 2]. La resistència al full de la pel·lícula d’aliatge de níquel-Chrome que conté un 20% de crom pot arribar a ser de 2-3 quilois i encara mantenir una bona estabilitat. El coeficient de temperatura 1 de resistència (TCR) per a l'aliatge de níquel a granel és d'aproximadament 110 ppm/° C. Al aliatge una petita quantitat de silici i alumini amb níquel-cromi, es millora encara més l'estabilitat de la temperatura.

Aplicació:

Les resistències incrustades en un tauler de cablejat imprès seran un facilitador per a paquets miniaturitzadors amb una fiabilitat més elevada i un rendiment elèctric millorat. La integració de la funcionalitat de resistència al substrat laminat allibera la superfície PWB consumida per components discrets, permetent augmentar la funcionalitat del dispositiu mitjançant la col·locació de components més actius. Els aliatges de níquel-crom posseeixen una alta resistència elèctrica, que els fan pràctics per utilitzar-los en diverses aplicacions. El níquel i el crom estan aliat amb silici i alumini per millorar l'estabilitat de la temperatura i reduir el coeficient tèrmic de resistència. Una fina capa resistiva de pel·lícula basada en aliatges de níquel-crom s'ha dipositat contínuament sobre rotllos de paper de coure per crear un material per a aplicacions de resistència incrustades. La capa resistent de la pel·lícula fina entre el coure i el laminat es pot gravar selectivament per formar resistències discretes. Els productes químics per gravar són habituals en els processos de producció de PWB. Controlant el gruix dels aliatges, els valors de resistència a la fitxa de 25 a 250 ohm/m2. s’obtenen. Aquest treball compararà dos materials de níquel-crom en les seves metodologies de gravat, uniformitat, manipulació de potència, rendiment tèrmic, adhesió i resolució de gravat.